Микроскоп стереоскопический szm-45b с переменным фокусным расстоянием
Область применения:
Микроскоп предназначен для наблюдения объемных
объектов, а также тонких пленочных и прозрачных объектов в медицине, ботанике,
биологии, минералогии, археологии, машиностроении, приборостроении и многих
других областях науки и техники.
Достоинства микроскопа:
Полностью закрытая оптическая система,
реализующая четкое и высококонтрастное трехмерное изображение;
Большое рабочее расстояние;
Плавное изменение увеличения от 7х до
45х (общее увеличение при использовании дополнительных объективов и окуляров от
3,5х до 180х);
Фокусировка с помощью механизма реечной
передачи с контролем парой шарообразных ручек;
Устойчивые штативы для различных задач;
Штампованное алюминиевое основание с
колонной для корпуса микроскопа и зажимами для образца;
Окуляры с диоптрийной наводкой на
резкость +/- 5 dp;
Встроенный осветитель 12В 20Вт с регулировкой
освещенности соответствующий требованиям международной электротехнической
комиссии;
Наблюдение может производиться как при
искусственном, так и при естественном освещении в отраженном и проходящем
свете.
Основные технические характеристики
Базовая комплектация
Увеличение
Плавное изменение от 3,5х до 180х
Насадка
Бинокулярная насадка с углом наклона в 45°
Окуляры
WF 10x с диаметром поля зрения 20 мм
Объективы
увеличение 1х;
Столик
Прямоугольный с зажимами для образца
Фокусировка
Механизм фокусировки слева и справа штатива с фиксированным
положением конкретного увеличения
Панкратическое изменение
6,4:1
Освещение
Проходящий и отраженный свет, 12В 20Вт с возможностью регулировки
освещенности
Дополнительные принадлежности: (не входят в базовую комплектацию)
Окуляры
WF 15x с диаметром поля зрения 15 мм
WF 20x с диаметром поля зрения 10 мм
Объективы
увеличение 1,5х; 2х; 0,5х
Темное поле
Принадлежности для реализации темного поля
Освещение
Волоконно-оптический осветитель
Видео/фото
документирование
Адаптеры для ССD и фото камер
Штативы
Специальный штатив с колонной и держателем в виде рычага
Специальный штатив для работы с большими образцами (в отраженном свете)
